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マイクロ波プラズマ

プラズマ源

ICPプラズマ源

特長
  • ICP(高周波誘導結合)プラズマ源は高電圧と高周波の変動磁場により、誘導結合プラズマを発生させるRF真空プラズマ源
仕様
用途ナノ粒子の合成、薄膜形成、有機ガスの分解
動作周波数13.56MHz
入力電力範囲200W~2kW
圧力範囲1Pa~10kPa
使用ガスAr、N2、O2、air
冷却方式水冷式

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