プラズマ源

トーチ型マイクロ波プラズマ源 S-WAVE

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S-WAVE 6, S-WAVE 8 S-WAVE(PDF)

トーチ型マイクロ波プラズマ源S-WAVEは、1Paから大気圧の範囲で動作する工業用及び研究用に設計されたコンパクトなプラズマ源です。
プラズマはプラズマ源内の放電管内にて生成され、電気導体として振る舞います。直径6mmまたは8mmの放電管を使用して、反応種、励起種を効率的に生成します。

特 長

  • 2つのチューナーを調整することで、最適なインピーダンスに合わせることが可能。
  • 所定の放電条件を設定することで、始動時に再調整することなくプラズマを再現。
  • オプションの誘電バリア放電着火システムの取り付けによって、大気圧下でも容易に放電を開始。

仕 様

型式S-WAVE 6, S-WAVE 8
用途表面活性化、元素分析、原子層堆積、ガス除去、ラジカル/反応種の生成、滅菌/消毒、細菌不活性化、付着細菌の低減、慢性創傷と感染皮膚の治療
使用周波数範囲2450MHz±50MHz
最大入力電力200W
使用圧力1Pa~大気圧
使用ガス大気圧:ArとArベース混合ガス
減圧:全てのガス対応
プラズマ噴出口石英管 Φ6mm、Φ8mm
接栓N型コネクタ(Female)
冷却用コネクタ水冷:Φ6mmホース用クイックコネクタ
空冷:Φ6mm管用クイックコネクタ
ガス用コネクタスウェージロック 6mmコネクタ
着火(オプション)誘電バリア放電着火システム

S-WAVEとソリッドステート電源の接続図


S-WAVE

同軸ケーブル
N型

ソリッドステート電源
GMS200W

ECRマイクロ波プラズマ源 AURA-WAVE

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CPSKFDN40ECR2DP AURA WAVE(PDF)

AURA-WAVEは同軸型ECRプラズマ源です。
このECRプラズマ源は電磁界解析による設計を用いることにより低圧での使用を可能とし、また自動での着火が可能です。
AURA-WAVE ECRプラズマ源は0.01Pa~1Paの圧力と数十ワットの電力でプラズマ放電が可能です。同様に、この同軸型プラズマ源は、低損失で設計され整合器を必要としません。また、ガスの圧力により反射電力が増えることもありません。プラズマ密度は、数1011cm-3以上でAr,O2,N2のガスが使用できます。
セ-ラム社製ソリッドステート電源を使用することにより1Wステップでプラズマのコントロ-ルが可能です。
ソリッドステート電源は、発振周波数を変化させることによりミスマッチングを抑え、AURA-WAVEを最適な条件で使用することができます。AURA-WAVEは広くR&Dから製造ラインにまで使用され、その用途はラジカルの生成、エッチング、PECVD、表面処理などに適しています。

特 長

マルチソ-スプラズマでは、ソリッドステ-ト電源とプラズマ源が1対1で構成されているため、各プラズマ源の入力電力を個々にコントロ-ルすることができます。このことにより、マイクロ波電力の出力がプラズマ源ごとに調整可能なため、プラズマ源間のロスを均一にすることができ、より広い表面処理が可能です。

仕 様

型式CPSKFDN40ECR2DP
使用周波数範囲2400MHz-2500MHz
最大入力電力200W
使用圧力約0.01Pa~約1Pa
プラズマ密度
使用ガス
Ar-O2-N2
One source2-5 × 1010cm-3 at 160mm
~1011cm-3 at 100mm
Multisource1011cm-3 at 160mm
約1011cm-3 at 100mm
接続真空フランジStandard KF DN40 flange
RF接続コネクタN型コネクタ (Female)
冷却方式水冷式 0.5L/min プッシュコネクタ式 Φ6mm

Ar@1Pa, 8 x AURA-WAVE 160W (8 x 20W)

N2-Ar@1Pa, 8 x AURA-WAVE 800W (8 x 100W)

実装例

写真は、8個のAURA-WAVEをマウントしたリアクターです。
最大マウント数は16個で、Φ300mmのウェハーまで処理が可能です。

AURA-WAVEとソリッドステート電源の接続図

PECVDマイクロ波プラズマ源 HI-WAVE

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CPSKFDN40ECR2DP HI-WAVE(PDF)

HI-WAVEマイクロ波プラスマ源は数Wの電力と約1Pa~10Paの圧力でプラズマ放電が可能です。同様にこの同軸型プラズマ源は、低損失で設計され、整合器を必要としません。また、ガスの圧力により反射電力が増えることはありません。プラズマ源をマルチ構成で使用した場合、プラズマ密度は1012cm-3以上を得ることができます。セ-ラム社製ソリッドステート電源を使用することにより1Wステップでプラズマのコントロ-ルが可能です。ソリッドステート電源は、発振周波数を変化させることによりミスマッチングを抑え、HI-WAVEを最適な条件で使用することができまです。HI-WAVEは広くR&D から製造ラインまで使用され、その用途は、PECVD(ナノ結晶ダイヤモンドの合成)、大面積プロセス処理、表面処理(クリーニング等)、殺菌処理などに適しています。

特 長

マルチソ-スプラズマでは、ソリッドステ-ト電源とプラズマ源が1対1で構成されているため、各プラズマ源の入力電力を個々にコントロ-ルすることができます。このことにより、マイクロ波電力の出力がプラズマ源ごとに調整可能なため、プラズマ源間のロスを均一にすることができ、より広い表面処理が可能です。

仕 様

型式CPSKFDN40HP2D
使用周波数範囲2400MHz-2500MHz
最大入力電力200W
使用圧力約1Pa~約10Pa
プラズマ密度
使用ガス
Ar-O2-N2
One source5 × 1010cm-3~2×1011cm-3 at 160mm
Multisource約1011cm-3~1012cm-3 at 100mm
接続真空フランジStandard KF DN40 flange
RF接続コネクタN型コネクタ(Female)
冷却方式水冷式 0.5L/min プッシュコネクタ式 Φ6mm

O2@10Pa, 8 x HI-WAVE 1600W (8 x 200W)

N2@10Pa, 8 x HI-WAVE 1600W (8 x 200W)

実装例

写真は、8個のHI-WAVEをマウントしたリアクターです。
最大マウント数は16個で、Φ300mmのウェハーまで処理が可能です。

HI-WAVEとソリッドステート電源の接続図

シングルモ-ド型マイクロ波プラズマ源

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DOWNSTREAM WR340 DOWNSTREAM WR340(PDF)

特 長

  • WR340導波管を使用したシングルモ-ド型プラズマ源
  • プラズマ噴出口:Φ30-Φ50mm
  • 圧力範囲 1Pa~大気圧

仕 様

型式DOWNSTREAM WR340
用途薄膜形成、ラジカル/反応種の生成
動作周波数2450MHz
入力電力範囲最大10kW
圧力範囲1Pa~大気圧
使用ガスAr、N2、O2、air
冷却方式水冷式
プラズマ噴出口石英管/アルミナ管  Φ30mm、Φ40mm、Φ50mm
接栓WR340導波管

DOWNSTREAM WR340とマグネトロン電源の接続図

SURFAGUIDE PLASMA SOURCE SURFAGUIDE WR340(PDF)

特 長

  • WR340導波管を使用したシングルモ-ド型プラズマ源
  • プラズマ放電箇部の導波管を薄くすることにより、電界強度が上がりプラズマの着火が容易
  • 圧力範囲 1Pa~大気圧

仕 様

型式SURFAGUIDE PLASMA SOURCE
用途薄膜形成、ラジカル/反応種の生成、有害物質分解ガス化、殺菌、粉末の合成
動作周波数2450MHz
入力電力範囲230W~6kW
圧力範囲1Pa~大気圧
使用ガスAr、N2、O2、air
冷却方式水冷式
プラズマ噴出口石英管/アルミナ管  Φ10mm、Φ15mm、Φ20mm
接栓WR340導波管

SURFAGUID PLASMA SOURCEとマグネトロン電源の接続図