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ウェハー用プローブステーションシステム

AGPS604-001

構成品一覧

プローブステーションのシステム構成品は、自由な組み合わせによりユーザー仕様に合わせてカスタマイズが可能です。 キーサイト・テクノロジー社製ネットワーク・アナライザとプローブステーションをセットでご購入の場合は、特別セット価格でご提供いたします。また、構成品単体でのご購入も可能です。
各構成品の詳細な仕様に関しては詳細ページをご覧いただくか、弊社までお問合せください。

標準セット ウェハー用プローブステーション
真空ペンと真空ポンプ
オプション ネットワーク・アナライザ(キーサイト・テクノロジー社製)
高周波プローブ lZl Probe(カスケード・マイクロテック社製)
アクティブ差動プローブシステム用プローブ針とプローブアンプ
(キーサイト・テクノロジー社製)
4端子法DC測定針(タングステンニードル)
防振台(卓上タイプ・デスクタイプ)
特長
プローブポシショナーは着磁固定されます。 ウェハーテーブルはX,Y,θ軸に対して粗動,微動で調整可能です。 弊社独自の機構によりウェハーテーブルを手前前方に引き出すことができます。 Z軸に上下1.5mmのポップアップ機構を持ちます。6インチ以下のウェハーに対しても真空吸着の切り替えが前面パネルで可能です。
弊社独自の3つの機構
①は1.5mmウェハーステージが上下するポップアップ機構です。 ② はウェハーチャックの真空ポイント切り替え機構です。 ③はウェハーチャックを前面へ引出しています。この位置にて被測定対象のウェハーを交換します。
アプリケーション
  • 6インチウェハーの測定
  • ダイシング後のチップ単体測定
主な機能
X軸ステージは、X方向に粗動ツマミで155ミリ、微動ツマミ(マイクロメーター付き)で±6.5ミリ移動します。 粗動ツマミでステージを簡単に移動させ、粗動ツマミを右に回すとロックされます(X軸ブレーキ機構)。 その後、マイクロメーターで微動調節します。
Y軸ステージは、Y方向に移動し、仕様はX軸ステージと同様です。
Z軸ステージは、手前に90ミリ引き出せるので、測定物の設置・取り外しを迅速かつ安全に行えます。 Z軸レバーをA点から右に回すと、B点でいったん止まり、チャックが8.5ミリ上昇します。 プローブの位置を合わせ、レバーをC点まで回し切ると、測定物とプローブが接触します。 測定を行い、レバーをB点へ戻すとチャックが1.5ミリ下降し、測定物はプローブから離れます(プローブON/OFF機構)。 その後、X軸、Y軸のマイクロメーターで微調節すると、次の測定箇所へ移動できます。
θ軸ステージは、粗動ツマミで±30°、微動ツマミで±5°回転します。
エアーコントロールレバーとエアーバルブセレクトスイッチ
チャック
真空ポンプ
真空ポンプ・チャック・エアーバルブセレクトスイッチは、4本のチューブで接続されています。
本体前面のエアーバブルセレクトスイッチで、チャックと真空ペンの吸着が切換えられます。
測定物の大きさにより、エアーコントロールレバーでチャックの吸着力を4段階に切換えることができます。
付属の真空ペンで微小なサンプルの吸引、離脱も簡単に行え、汚れの付着も防げます。

マイクロポジショナー
様々なタイプをもつマイクロポジショナーは、X-Y-Z-2つのθ軸を有し、高精度な位置決めができます。
プローブ固定金具は、カスタムオーダーが可能です。
プローブは、エアーコプレーナタイプ、セミリジッドタイプ、差動アクティブタイプから選択できます。
ポジショナーテーブルは十分な面積と耐荷重を確保し、最大4台までのポジショナーを設置できます。
※ プローブおよびプローブ固定金具のカスタム作成はオプションになります。
仕様

型式:AGPS604-001

周波数 プローブ仕様による

[半導体ウェハー]

ウェハー寸法 最大直径 150mm (6 inch)

[プロービングステージ]

X軸/Y軸ステージ(共通) 最大移動範囲:155mm (X方向) x 155mm (Y方向)   微動範囲:±6.5mm (最大移動範囲内での微調整)   独立したX軸/Y軸ブレーキ
θ軸ステージ 最大粗動範囲:±30° 微動範囲:±5° (最大移動範囲内での微調整)
Z軸ステージ 引き出し量:90mm 移動量:10mm プローブON/OFF移動量:1.5mm
チャック 測定物固定方法:真空吸着式 真空吸着切換え:4段階切り替え

[マイクロポジショナー]

タイプ ポジショナー仕様による

[プローブ]

種類エアーコプレーナプローブ、セミリジットプローブ、差動アクティブプローブ

[実体顕微鏡]

オリンパス製 倍率: 0.67~4.5X ズーム比: 6.7 作動距離: 110mm 接眼レンズ: WHSZ10 x -H

[真空吸引]

真空ポンプ(別置き) 到達真空度:-33.3kPa{-250mmHg} 吐出空気量:5l/min
定格電圧:AC100V(50/60Hz) 消費電力:15/14W 電流:0.35/0.3A
  定格時間:連続
真空吸引ペン パッド径:φ6mm 吸引できる重さ:最大94g

[プローブステーション 本体サイズ]

寸法と重量 600mm(幅) x 400mm(奥行) x 550mm(高)  34kg

真空ポンプ真空ペン

オプション構成品

ネットワーク・アナライザ  キーサイト・テクノロジー社製

キーサイト・テクノロジー社製の全てのネットワーク・アナライザと組み合わせることができます。
ネットワーク・アナライザに関する詳しい情報は、以下のページをご参照ください。

アジレント・テクノロジー社ロゴ ※株式会社エーイーティーはキーサイト・テクノロジー合同会社とソリューションパートナー契約を締結しています。

高周波プローブ lZlProbe カスケード・マイクロテック社製

lZlProbeはカスケード・マイクロテック社の登録商標です。
株式会社エーイーティーは、カスケード・マイクロテック株式会社のビジネスパートナーです

>> 高周波プローブの詳細ページへ

防振台 卓上タイプ

特長
  • 1次元/3次元の防振性
    1次元方式の防振方向性は垂直方向(Z)のみ、3次元方式の防振方向性は水平2方向(X/Y)と垂直(Z)の3方向です。
  • 3ヶ所の給排気弁
    ハンドエアーポンプでエアーを供給した後、搭載盤前面の3ヶ所の給排気弁でエアーを調節し、搭載盤を最適な高さまで浮上させます。また、同様に水平レベルも簡単に調節できます。
仕様
型式ABSDT0607-1D
(1次元タイプ)
ABSDT0607-3D
(3次元タイプ)
固有振動数Z方向 1.5~3.0HzXY2方向 1.0~2.0Hz  Z方向 1.5~3.0Hz
防振方式一次元空気バネ三次元空気バネ
制振方式オリフィスによる
エアー供給方式手動式エアーポンプ
水平維持3ケ所の給排気弁による手動調整
搭載盤の上面
(1か2を選択)
1 ロンリュウム貼り*(着磁不可)
2 ステンレス鋼板(着磁性)
搭載盤処理ハイダンピング処理
(有無を選択)
ハイダンピング処理
(標準)
本体枠処理ハイダンピング処理
(有無を選択)
ハイダンピング処理
(標準)
搭載可能重量70kg
本体脚部ゴム製高剛性インシュレータ
付属品 ハンドエアーポンプ1本 

* ロンリュウム・・・塩化ビニールを主材としており着磁不可。搭載盤上の機器の滑り止め効果有。

防振台 デスクタイプ

特長
  • 1次元/3次元の防振性
    1次元方式の防振方向性は垂直方向(Z)のみ、3次元方式の防振方向性は水平2方向(X/Y)と垂直(Z)の3方向です。
  • 3ヶ所の給排気弁
    マニュアル式:ハンドエアーポンプでエアーを供給した後、3ケ所の給排気弁でエアーを調節し、搭載盤を最適な高さまで浮上させます。同様に水平レベルも簡単に調節できます。 オート式:外部空気源からエアーを供給し、オートレベルセンサー(3ケ所)で自動排気し、搭載盤の高さと水平レベルを調節します。
仕様
型式ABSDSK0607-1D
(1次元タイプ)
ABSDSK0607-3D
(3次元タイプ)
固有振動数Z方向 1.0~2.0HzXYZ3方向 1.0~2.0Hz
防振方式一次元空気バネ三次元空気バネ
制振方式オリフィスおよびユニバーサルシステム*による
エアー供給方式
(1か2を選択)
1 マニュアル式:手動式エアーポンプによる
2 オート式:エアーコンプレッサ、 工場エアーなど(圧力は0.3~最大0.5MPa必要)
水平維持
(1か2を選択)
1 マニュアル式: 3ケ所の給排気弁による手動調整
2 オート式: 集中排気型オートレベルセンサーによる自動排気
(クリーンルームでの設置も可能。)
搭載盤の上面
仕上げ/加工
ステンレス鋼板(着磁性)SUS-410・5t無塗装/無加工
搭載盤の材質および構造高密度スチールハニカムベンチ
搭載盤の寸法800mm(幅)×600mm(奥行き)
搭載可能重量130kg
本体寸法860mm(幅)×710mm(奥行き)×650mm(高さ)
本体重量120kg
付属品ハンドエアーポンプ1本

*ユニバーサルシステムとは球面に稼動する二重振り子の原理を応用した制振方式です。

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