Principles of Plasma Discharges and Materials Processing , 2nd Edition

本書の初版は、基本的なプラズマ物理と工業的なプラズマ処理の両方について徹底的に取り扱われていると非常に好評でした。 第二版はその内容をさらに更新し、最新の開発を反映させ、また基本的な概念のより明確な解説が付け加えられています。プラズマの物理と化学の基礎について深く取り扱いながら、基本的な理論をプラズマ放電に応用しています。プラズマパラメータの計算と制御パラメータで行うプラズマパラメータのスケーリングが含まれます。

以下が新トピックおよび更新されたトピックです。

Updated cross sections
* Diffusion and diffusion solutions
* Generalized Bohm criteria
* Expanded treatment of dc sheaths
* Langmuir probes in time-varying fields
* Electronegative discharges
* Pulsed power discharges
* Dual frequency discharges
* High-density rf sheaths and ion energy distributions
* Hysteresis and instabilities
* Helicon discharges
* Hollow cathode discharges
* Ionized physical vapor deposition
* Differential substrate charging

1. Introduction.
2. Basic Plasma Equations and Equilibrium.
3. Atomic Collisions.
4. Plasma Dynamics.
5. Diffusion and Transport.
6. DC Sheaths.
7. Chemical Reactions and Equilibrium.
8. Molecular Collisions.
9. Chemical Kinetics and Surface Processes.
10. Particle and Energy Balance in Discharges.
11. Capacitive Discharges.
12. Inductive Discharges.
13. Wave-Heated Discharges.
14. DC Discharges.
15. Etching.
16. Deposition and Implantation.
17. Dusty Plasmas.
18. Kinetic Theory of Discharges.

Appendix A: Collision Dynamics.
Appendix B: The Collision Integral.
Appendix C: Diffusion Solutions for Variable Mobility Model.