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プラズマ源

大気圧マイクロ波プラズマ源

大気圧窒素ガスで放出されたプラズマ 大気圧小型マイクロ波プラズマ源は、荷電粒子・プラズマを考慮した3次元電磁界解析の技術と、高Qの大電力マイクロ波共振器の設計技術を融合し設計された、マイクロ波共振器型プラズマ源です。

大気圧下で作られるプラズマは非平衡プラズマであり、プラズマ温度が低いため熱反応を抑えながら対象物のプラズマ処理が可能となります。
大気中での処理が可能であるため連続プロセスにも適しています。
大気圧小型マイクロ波プラズマ源は、各種材料の処理やコーティング、殺菌や洗浄に至るまで幅広い応用が期待できます。

また、生体を含む有機物への対応も可能となるので、全く新しいプラズマの応用が期待されます。特に、カーボンナノチューブをはじめとするナノ粒子やナノテク、バイオ、医療、薬品分野でのプラズマ応用は新しい産業を生み出す可能性を秘めています。

キャビティ型マイクロ波プラズマ源 APLC024シリーズ

APLC-024は周波数2.45GHzを使用したキャビティ型マイクロ波プラズマ源です。
大気圧下でのプラズマ生成が可能で、さらにマイクロ波使用により装置の小型化を実現したシステムです。入力電力は最大1kWまで使用可能で、石英管内径サイズはΦ20mmの他にΦ10mmに変更も可能です。

ペン型マイクロ波プラズマ源 APLP024-005

入力電力80W(最小)・周波数2.45GHzにて大気圧下でのプラズマ生成が可能な、ペン型マイクロ波プラズマ源です。
石英管内径サイズがΦ2mmで局所的な処理に有効です。
また、同軸ケーブルで電力を供給するため取り回しが容易で非常に使いやすく、簡易的な実験に最適なプラズマ源となっています。

マイクロ波プラズマ源(減圧)

マイクロ波プラズマは誘電体表面のガスを励起させプラズマを生成します。
生成されたプラズマのプラズマ密度は非常に高く様々な有機物に対して非常に高い処理能力が有ります。

弊社取り扱いのマイクロ波真空プラズマ源には高Qのキャビティ型マイクロ波プラズマ源、リエントラント型マイクロ波プラズマ源、大電力用ではシングルモード型マイクロ波プラズマ源、広範囲に均一なプラズマを生成するには、ECRプラズマ源とPECVDプラズマ源があります。
これらは、CVD、エッチング、表面改質、有害ガスの分解等、広く使用されています。

RF真空プラズマ源

ICP(Inductively Coupled Plasma)は高周波誘導結合プラズマと訳され、発光分光分析法の一つの手法です。

ICPプラズマ源は、石英ガラス管で作られた気体の通過する流路の周囲に高周波誘電コイルを巻き、そこに高周波大電流を流すことによって高電圧と高周波数の変動磁場が同時に得られ、誘導結合プラズマを発生させます。
多くの固体試料も溶液化して分析することができ、ナノ粒子の合成、厚膜合成、有害ガスの分解等に広く利用されています。

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